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光学平板在高精度的科学实验中，也是为严谨的科学实验做出了极大地贡献。下面我们就来了解一下光学平板到底是什么。

 光学平板指的是光学平板的两面都被精密抛光，它通常作为分光镜或窗口等透过型元件，或被用作全反射镜或光学测量中的基准平面现象。

 一般分为三种材料类型的光学平板：BK7,SFS 和准分子激光用 SFS。其中大部分产品有各种指标的组合：形状(圆形或方形)，面精度(λ，λ/4，λ/10，λ/20)，多种厚度和平行度。BK7基板常用于可见光和近红外区。从紫外到近红外，SFS的温度稳定性，耐热性都很好。准分子激光用SFS，用于高功率的准分子激光 KrF(248nm)时，具有低萤光特性。去除抛光面的次表面缺陷(微小裂纹)，对于改善膜的质量，提高耐高功率激光的稳定性很重要。尽可能地控制磨料，温度和研磨过程，减少次表面缺陷。

光学平板通常作为分光镜或窗口等透过型元件或被用作全反射镜或光学测量中的基准平面。其中大部分产品有各种指标的组合:形状，面精度，多种厚度和平行度。台面采用阵列的M6标准螺纹孔，便于固定各种调整架、支撑架、光具座、位移台等，是一种便利且划算的平台。

产品特点：光学平板采用精良铝合金或者不锈钢精加工而成，重量适中，易搬动，不易变形。螺纹孔阵列的标准孔距便于固定各种调整架、支撑架、光具座、位移台等。表面经过阳极氧化发黑处理，减少表面反射，美观耐用。

光电仪器中的保护玻璃和分划板、制造集成电路的基片、平面显示器玻璃,都是属于一般精度要求的平板类平面光学零件,由于这类零件的需求量日益增大,使这类零件的双面加工技术逐渐发展成熟。

双面加工技术指同时对平板类光学零件的两个平面同步进行加工的技术。显然,这种两面同步加工的技术,比每个面分别单次加工的效率要高得多,但相应的设备要求和控制要求也要高得多。

这种双面加工,一般速度不高。下模比较大,上模比较小,挡圈直径比上模大,比下模小。适当地调节上模的摆动量,可以实现平板的上下表面同时精磨或抛光。研磨或抛光时,人工将磨料或抛光粉间断地添加到下模和平板的表面。这种低速的双面加工,比单面加工提高了效率,但被加工的平面度和双面的平行度则达不到很高的要求,所以只适用于般精度平板的加工。

随着大规模、超大规模集成电路制造技术的发展,由于大批量半导体硅片加工的需要,国外出现了双面高速加工机床,适用于半导体硅片的双面研磨和抛光,进而被推广到高速研磨抛光光电仪器中的光学平板。