志城精研(多图)-阻尼光学平台价格

我们知道，光学平台台面，若为达到高平面度，通常需要反复磨削，在加工过程中，多次磨削容易使材料产生形变，为了减少形变，通常要加厚台面，但我们通过振动恢复时间的说明已经知道，台面加厚质量增加，平台的振动恢复时间往往成倍（甚至几倍）增加，在很多精密光学实验中，这是不可接受的。 对于平台上的光学元件来说，平面度引起的高度差，通常可以忽略不计，若确有必要考虑高度差，则完全可以通过卓立精密调整的位移台来实现。综上所述，光学平台的平面度，同光学平台的隔振性能不相关，只能做为光学平台的一个辅助指标，供参考。

随着***的设备和工艺的发展，使纳米量级的测量成为可能。例如，变相光学干涉仪测量物体的表面粗糙度，目前可以达到1纳米的分辨率。在半导体领域，已生产出线宽在亚微米量级的集成电路，提出测量准确率小于50纳米的精度要求。这样的应用对系统中不同元件相关配合精度和稳定性提出了极高的要求。例如，用显微镜对图像进行高度放大的成像系统，显微镜和照像物镜共同决定了相纸上每点的图像。如果，在曝光过程中光学系统的每一部分(照明系统、样品、显微镜光学系统、成像光学系统和相纸平面)都准确地一同移动，阻尼光学平台价格，不存在相对位移，成像也会很清晰。如果样品相对物镜产生了运动，则像就会模糊。在光学干涉测量、全息及运用相似的规律时，控制相对运动都是很重要的。

平台用仪器支架是光学平台应用的延伸，独立放置，可放置示波器、各种控制器、适配器电脑等，不仅可以充分利用光学平台上方的空间，且操作各类仪器时不影响平台的的稳定性。

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