光学平板价格-志城精研仪器(图)

控制温度变化：随着时间的延续，不规则温度变化会造成渐渐的结构弯曲。减小温度效应的关键在于控制环境减少温度变化。例如，避免在平台下放置散热设备，隔绝热源设备和硬件，如光源、火焰等，尽可能将台面设计成对温度不敏感：良好的热传导性可起到作用，然而，在极I端特殊的应用中，选用不随温度变化而改变外形尺寸的特殊材料是必要的。例如超不胀钢，具有很小的热膨胀系数。一米长的超不胀钢在温度变化1K时膨胀长度约0.2微米。

这种双面加工，一般速度不高。下模比较大，上模比较小，挡圈直径比上模大，比下模小。适当地调节上模的摆动量，可以实现平板的上下表面同时精磨或抛光。研磨或抛光时，人工将磨料或抛光粉间断地添加到下模和平板的表面。这种低速的双面加工，比单面加工提高了效率，但被加工的平面度和双面的平行度则达不到很高的要求，光学平板价格，所以只适用于般精度平板的加工。

随着大规模、超大规模集成电路制造技术的发展，由于大批量半导体硅片加工的需要，国外出现了双面高速加工机床，适用于半导体硅片的双面研磨和抛光，进而被推广到高速研磨抛光光电仪器中的光学平板。

早期的双面加工，是在一般的二轴机上，采用上下平模，使用挡圈和分离片对平板的两个面同时进行加工，其装置如图12-1所示，主要进行精磨和抛光的双面加工。加工时，下模1随机床主轴转动，上模5在摆架带动下摆动，同时随下模的转动而转动，其转动没有动力，被加工平板2放在分离片3内，摆动的上模将带动挡圈，从而带动被加工平板在下模平面上平动，同时平板亦可以在分离片圈内随上下模的转动而转动。